一、目的

本設(shè)備基于單旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制技術(shù)一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜，可實(shí)現(xiàn)基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學(xué)常數(shù)的快速分析表征。

二、測(cè)量系統(tǒng)規(guī)格

SE-VE光譜橢偏儀技術(shù)參數(shù)

1. 橢偏儀測(cè)頭規(guī)格：

1. 光譜范圍：400-800nm

2. 入射角：65°

3. 光斑大?。?/span>2-3mm

4. 調(diào)制技術(shù)：PC_RSA調(diào)制技術(shù)

5. 膜厚重復(fù)性測(cè)量精度：0.05nm（100nm 硅基SiO2樣件，30次重復(fù)測(cè)量1σ）

6. 折射率測(cè)量精度：0.001（100nm 硅基SiO2樣件，30次重復(fù)測(cè)量1σ）

7. 膜厚測(cè)量范圍：0.1nm—10μm

8. 單點(diǎn)測(cè)量時(shí)間：＜5s

9. 光源：高性能進(jìn)口鹵素?zé)艄庠矗u素?zé)魤勖?/span>2,000h）

10. 可視化樣品顯微對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

     

    圖1光譜橢偏測(cè)頭原理圖

     

    圖2  SE-VE光譜橢偏儀實(shí)物圖

1. 樣品臺(tái)規(guī)格：

1. 基板尺寸：*大支持樣件尺寸到8inch晶圓 （可定制）

2. Z軸位移行程：0-10mm

3. 樣件臺(tái)俯仰角度：> ±2°

1. 測(cè)控與分析軟件

1. 光譜測(cè)量能力：PSI/DELTA橢偏光譜、N/C/S光譜、反射率光譜測(cè)量

2. 數(shù)據(jù)分析能力：具備單層、多層膜厚、光學(xué)常數(shù)（折射率、消光系數(shù)）分析能力

3. 支持常用光學(xué)常數(shù)模型以及常用振子模型（柯西模型、洛倫茲模型、高斯模型等），并支持圖形化多振子混合模型擬合功能

4. 支持多組分薄膜與體材料光學(xué)常數(shù)、組分比例分析功能； 核心算法包含嚴(yán)格耦合波模型、等效介質(zhì)模型

5. 支持用戶自定義，軟件不限制拷貝數(shù)量，支持windows10操作系統(tǒng)

1. 測(cè)控與分析計(jì)算機(jī)

1. 操作系統(tǒng)：WIN10  64位

2. CPU處理器：Intel 酷睿I3

3. 內(nèi)存：≥4G

4. 硬盤：≥500G

5. 顯示器：≥19寸

1. 配件

1. 標(biāo)準(zhǔn)SiO2/Si標(biāo)樣

2. 標(biāo)準(zhǔn)安裝工具一套

1. 環(huán)境要求

1. 橢偏儀承載臺(tái)：尺寸>1.5m（長(zhǎng)）× 1.0 m（寬），承載能力大于50Kg（建議光學(xué)隔振）

2. 使用溫度范圍：20 ~ 26 ℃

3. 相對(duì)濕度：35% ~ 60% RH

4. 空氣壓力范圍：750~1014 mbar

5. 潔凈度： Class 10000

1. 能源要求

1. 供電電源電壓：220V AC

2. 正常頻率范圍：49-51Hz

3. 相電流：有效值小于0.5A（220V AC）

4. 功率：小于110 W

1. 涂裝與表面處理

1. 涂裝顏色：以黑色為主

2. 表面處理：鍍化學(xué)鎳、陽極處理、烤漆等

1. 質(zhì)保與售后服務(wù)

1. 整機(jī)硬件質(zhì)保期為12個(gè)月。在質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)各類故障供方及時(shí)免費(fèi)維修，對(duì)非人為造成的各類零件損壞，及時(shí)免費(fèi)更換

2. 測(cè)控與分析軟件：終身免費(fèi)升級(jí)，數(shù)據(jù)分析軟件提供不限量拷貝

3. 為用戶提供**充分儀器操作與數(shù)據(jù)分析培訓(xùn)

4. 提供終身免費(fèi)數(shù)據(jù)建模與分析技術(shù)支持，為用戶提供不限量樣件材料光學(xué)常數(shù)標(biāo)定與模型庫升級(jí)服務(wù)

5. 供方在接到故障報(bào)修信息后，供方維修人員4小時(shí)內(nèi)電話響應(yīng)，*晚48小時(shí)內(nèi)供方服務(wù)工程師進(jìn)行****維修

    

    

    

    

    

    

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